Прямая лазерная запись высокоапертурных синтезированных голограмм: материалы и методы

В. П. Корольков, Р. К. Насыров, А. Г. Седухин, Р. В. Шиманский, Д. А. Белоусов, Р. И. Куц

Институт автоматики и электрометрии СО РАН, Новосибирск, Россия

Работа посвящена технологиям прямой лазерной записи дифракционных структур на металлических пленках подгрупп титана и хрома, позволяющим изготавливать микроструктуры с периодом до 1 мкм при размере пятна 0.7 мкм. Пространственное разрешение термохимической записи на металлических пленках может быть значительно улучшено за счет сквозного окисления, которое резко увеличивает отрицательную обратную связь при поглощении света. Изучение лазерной записи на пленках циркония и титана продемонстрировало их перспективу в технологии создания компьютерно-синтезированных голограмм. Реактивное ионное травление пленок титана через лазерно-индуцированную оксидную маску может быть использовано для изготовления бинарных фазовых структур. Использование данной технологии должно позволить создавать дифракционные сферические эталоны с апертурой до f / 0.75.

Ключевые слова: Синтезированные голограммы, Термохимическая лазерная запись, Металлические пленки, Дифракционные оптические элементы, Оксидная маска.

Цитирование: Корольков, В. П. Прямая лазерная запись высокоапертурных синтезированных голограмм: материалы и методы / В. П. Корольков, Р. К. Насыров, А. Г. Седухин, Р. В. Шиманский, Д. А. Белоусов, Р. И. Куц // HOLOEXPO 2019 : XVI Международная конференция по голографии и прикладным оптическим технологиям : Тезисы докладов. — М. : МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2019. — С. 54–59.