Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
Сергей Дмитриевич Полетаев1, Александр Иванович Любимов2
1 Институт систем обработки изображений РАН — филиал ФНИЦ «Кристаллография и фотоника» РАН, Самара, Россия
2 АО «Научно-производственное объединение «Государственный институт прикладной оптики», Казань, Россия
Теоретически и экспериментально исследовано влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении через маску массивных подложек во фреоне-14. Показано, что маски с покрытием подложек выше 30%, приводят к росту реактивной составляющей мощности на расстояниях от центра, близких к радиусу подложки. Экспериментально показано, что маски с любым практически значимым коэффициентом покрытия подложки, соединённые с нижним электродом через подложкодержатель, улучшают согласование, снижая коэффициент отражения по мощности.
Ключевые слова: дифракционный микрорельеф, реактивно-ионное травление, импеданс, подложкодержатель, нижний электрод.
Цитирование: Полетаев, С. Д. Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек / С. Д. Полетаев, А. И. Любимов // HOLOEXPO 2021 : XVIII Международная конференция по голографии и прикладным оптическим технологиям : Тезисы докладов. — М. : МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2021. — С. 251–256.