Новые старые технологии полутоновой литографии
Виктор Павлович Корольков1, Роман Игоревич Куц1, Сергей Константинович Голубцов1, Дарья Евгеньевна Зайцева1, 2
1 Институт автоматики и электрометрии СО РАН, Новосибирск, Россия
2 Новосибирский государственный технический университет, Новосибирск, Россия
Полутоновая литография широко используется при формировании многоуровневого рельефа в технологиях дифракционных и микрооптических элементов с путем модуляции распределения дозы экспозиции фоторезиста. Для растрированных полутоновых фотошаблонов требуется дорогая установка проекционной фотолитографии, имеющая ограниченный размер светового поля в пределах 8-20 мм, в то время как для действительно полутоновых фотошаблонов (ДПШ) достаточно установки контактной фотолитографии (типичное световое поле ≥100 мм) или даже просто источника УФ излучения с широким однородным пучком. В докладе рассмотрены методы изготовления и применения ДПШ, как на основе изменения коэффициента поглощения, так и формирования 3D рельефа на поглощающей плёнке. Представлены примеры реализации ДОЭ, изготовленных с применением полутоновой фотолитографии.
Ключевые слова: полутоновая литография, фоторезист, дифракционные оптические элементы, микрооптика, полутоновой фотошаблон, растрированный полутоновой фотошаблон.
Цитирование: Корольков, В. П. Новые старые технологии полутоновой литографии / В. П. Корольков, Р. И. Куц, С. К. Голубцов, Д. Е. Зайцева // HOLOEXPO 2023: 20-я Международная конференция по голографии и прикладным оптическим технологиям (Сочи, 12–15 сентября): Тезисы докладов. — СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2023. — С. 351–359.