Формирование синусоидальных голографических решеток методом сухого электронно-лучевого травления резиста

Федор Сидоров, Александр Рогожин

Физико-технологический институт им. К. А. Валиева РАН, Москва, Россия

Метод сухого электронно-лучевого травления резиста (СЭЛТР) основан на цепной реакции термической деполимеризации, протекающей при экспонировании позитивного полимерного резиста электронным лучом при температурах выше температуры стеклования резиста и обеспечивающей формирование рельефа непосредственно при экспонировании. Одной из особенностей данного метода является возможность высокопроизводительного формирования в резисте волнообразного профиля при экспонировании вдоль серии параллельных линий. На основе моделирования процесса СЭЛТР было установлено, что при правильном подборе параметров экспонирования в резисте ПММА могут быть получены синусоидальные решетки с плотностью штрихов до 2000 1/мм и глубиной профиля до 200 нм. Среднеквадратичное отклонение вершин поверхности решеток от функции синус при этом составляет менее 5%.

Ключевые слова: термическая деполимеризация резиста, сухое электронно-лучевое травление резиста, синусоидальные голографические решетки.

Цитирование: Сидоров, Ф. Формирование синусоидальных голографических решеток методом сухого электронно-лучевого травления резиста / Ф. Сидоров, А. Рогожин // HOLOEXPO 2023: 20-я Международная конференция по голографии и прикладным оптическим технологиям (Сочи, 12–15 сентября): Тезисы докладов. — СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2023. — С. 360–362.