К вопросу деградации тонких пленок оксида кремния в условиях высоких тепловых нагрузок

Анна Аркадьевна Скворцова, Ольга Вячеславовна Володина, Аркадий Алексеевич Скворцов

Московский политехнический университет, Москва, Россия

Работа посвящена исследованию термоупругих напряжений и дефектообразованию в тонких пленках SiO2 на кремнии при локальном импульсном нагреве поверхности. Показано, что воздействие на поверхности теплового источника (импульсный нагрев металлизированного участка поверхности, либо импульс лазерного диода λ=405 нм, Р=5 Вт) тепловой мощностью 6·105 Вт/м2 приводит к образованию микротрещин в пленках SiO2. Проведена оценка величины механических напряжений, возникающих в структуре SiO2-Si при тепловом ударе. Показано, что в отличии от пленок SiO2 уровня возникающих механических напряжений в кремнии недостаточно для образования трещин вблизи источника теплового удара.

Ключевые слова: тонкие пленки оксида кремния, термоудар, механические напряжения.

Цитирование: Скворцова, А. А. К вопросу деградации тонких пленок оксида кремния в условиях высоких тепловых нагрузок / А. А. Скворцова, О. В. Володина, А. А. Скворцов // HOLOEXPO 2023: 20-я Международная конференция по голографии и прикладным оптическим технологиям (Сочи, 12–15 сентября): Тезисы докладов. — СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2023. — С. 439–443.